Microelectronic Engineering（微電子工程雜志）是由Elsevier出版社主辦的一本以工程技術-工程：電子與電氣為研究方向，OA非開放（Not Open Access）的國際優(yōu)秀期刊。旨在幫助發(fā)展和壯大工程技術及相關學科的各個方面。該期刊接受多種不同類型的文章。本刊出版語言為English，創(chuàng)刊于1983年。自創(chuàng)刊以來，已被SCIE（科學引文索引擴展板）等國內外知名檢索系統(tǒng)收錄。該雜志發(fā)表了高質量的論文，重點介紹了ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC在分析和實踐中的理論、研究和應用。
ISSN：0167-9317
E-ISSN：1873-5568
出版商：Elsevier
出版語言：English
出版地區(qū)：NETHERLANDS
出版周期：Monthly
是否OA：未開放
是否預警：否
創(chuàng)刊時間：1983
年發(fā)文量：100
影響因子：2.6
研究類文章占比：91.00%
Gold OA文章占比：15.94%
H-index：89
出版國人文章占比：0.14
出版撤稿文章占比：
開源占比：0.03...
文章自引率：0.0434...
《Microelectronic Engineering》是一份國際優(yōu)秀期刊，為工程技術領域的研究人員和從業(yè)者提供科學論壇。該期刊涵蓋了工程技術及相關學科的所有方面，包括基礎和應用研究，使讀者能夠獲得來自世界各地的最新、前沿的研究。該期刊歡迎涉及工程技術領域的原創(chuàng)理論、方法、技術和重要應用的稿件，并刊載了涉及工程技術領域的相關欄目：綜述、論著、述評、論著摘要等。所有投稿都有望達到高標準的科學嚴謹性，并為推進該領域的科研知識傳播做出貢獻。該期刊最新CiteScore值為5.3，最新影響因子為2.6，SJR指數(shù)為0.503，SNIP指數(shù)為0.847。
CiteScore指標的應用非常廣泛，以期刊的引用次數(shù)為基礎評估期刊的影響力。它可以反映期刊的學術影響力和學術水平，是學術界常用的期刊評價指標之一。
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 排名 | ||||||||||||||||||||||||
| 5.3 | 0.503 | 0.847 |
|
CiteScore是由Elsevier公司開發(fā)的一種用于衡量科學期刊影響力的指標，以期刊的引用次數(shù)為基礎評估期刊的影響力。這個指標是由Scopus數(shù)據(jù)庫支持，以四年為一個時段，連續(xù)評估期刊和叢書的引文影響力的。具體來說，CiteScore是計算某期刊連續(xù)三年發(fā)表的論文在第四年度的篇均引用次數(shù)。CiteScore和影響因子（IF）有所不同。例如，在影響因子的計算中，分子是來自所有文章的引用次數(shù)，包括編輯述評、讀者來信、更正信息和新聞等非研究性文章，而分母則不包括這些非研究性文章。然而，在CiteScore的計算中，分子和分母都包括這些非研究性文章。因此，如果這些非研究性文章比較多，由于分母較大，相較于影響因子，CiteScore計算出來的分數(shù)可能會偏低。此外，CiteScore的引用數(shù)據(jù)來自Scopus數(shù)據(jù)庫中的22000多個期刊，比影響因子來自Web of Science數(shù)據(jù)庫的11000多個期刊多了一倍。
| 按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 157 / 352 |
55.5% |
| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 94 / 140 |
33.2% |
| 學科：OPTICS | SCIE | Q2 | 45 / 119 |
62.6% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 81 / 179 |
55% |
| 按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 179 / 354 |
49.58% |
| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 74 / 140 |
47.5% |
| 學科：OPTICS | SCIE | Q3 | 64 / 120 |
47.08% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 88 / 179 |
51.12% |
WOS(JCR)分區(qū)是由科睿唯安公司提出的一種新的期刊評價指標，分區(qū)越靠前一般代表期刊質量越好，發(fā)文難度也越高。這種分級體系有助于科研人員快速了解各個期刊的影響力和地位。JCR將所有期刊按照各個學科領域進行分類，然后以影響因子為標準平均分為四個等級：Q1、Q2、Q3和Q4區(qū)。這種設計使得科研人員可以更容易地進行跨學科比較。
中科院SCI期刊分區(qū)是由中國科學院國家科學圖書館制定的。將所有的期刊按照學科進行分類，以影響因子為標準平均分為四個等級。分區(qū)越靠前一般代表期刊質量越好，發(fā)文難度也越高。
2023年12月升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 否 | 否 | 工程技術 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技
OPTICS
光學
PHYSICS, APPLIED
物理：應用
4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
|
2022年12月升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 否 | 否 | 工程技術 3區(qū) |
OPTICS
光學
PHYSICS, APPLIED
物理：應用
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技
3區(qū)
3區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
|
2021年12月舊的升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 否 | 否 | 工程技術 3區(qū) |
OPTICS
光學
PHYSICS, APPLIED
物理：應用
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技
3區(qū)
3區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
|
2021年12月基礎版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 否 | 否 | 工程技術 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技
OPTICS
光學
PHYSICS, APPLIED
物理：應用
4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
|
2021年12月升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 否 | 否 | 工程技術 3區(qū) |
OPTICS
光學
PHYSICS, APPLIED
物理：應用
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技
3區(qū)
3區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
|
2020年12月舊的升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 否 | 否 | 工程技術 3區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技
OPTICS
光學
PHYSICS, APPLIED
物理：應用
3區(qū)
3區(qū)
3區(qū)
3區(qū)
|
Microelectronic Engineering(中文譯名微電子工程雜志)是一本專注于工程技術,工程：電子與電氣領域的國際期刊，致力于為全球ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領域的研究者提供一個高質量的學術交流平臺。該期刊ISSN：0167-9317，E-ISSN：1873-5568，出版周期Monthly。在中科院的大類學科分類中，該期刊屬于工程技術范疇，而在小類學科中，它主要涵蓋了ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC這一領域。編輯部誠摯邀請廣大工程技術領域的專家學者投稿，內容可以涵蓋工程技術的綜合研究、實踐應用、創(chuàng)新成果等方面。同時，我們也歡迎學者們就相關主題進行簡短的交流和評論，以促進學術界的互動與合作。為了保證期刊的質量，審稿周期預計為 約6.0個月 。在此期間，編輯部將對所有投稿進行嚴格的同行評審，以確保發(fā)表的文章具有較高的學術價值和實用性。
值得一提的是，Microelectronic Engineering近期并未被列入國際期刊預警名單，這意味著其學術質量和影響力得到了廣泛認可。該期刊為工程技術領域的學者提供了一個優(yōu)質的學術交流平臺。因此，關注并投稿至Microelectronic Engineering無疑是一個明智的選擇，這將有助于提升您的學術聲譽和研究成果的傳播。
多年來，我們專注于期刊投稿服務，能夠為您分析推薦目標期刊。憑借多年來豐富的投稿經(jīng)驗和專業(yè)指導，我們有效助力提升錄用幾率。點擊以下按鈕即可免費咨詢。
投稿咨詢| 國家 / 地區(qū) | 發(fā)文量 |
| CHINA MAINLAND | 104 |
| South Korea | 80 |
| France | 56 |
| USA | 47 |
| Japan | 45 |
| GERMANY (FED REP GER) | 41 |
| India | 36 |
| Taiwan | 31 |
| Greece | 27 |
| Italy | 27 |
| 期刊引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
| MICROELECTRON ENG | 365 |
| APPL PHYS LETT | 348 |
| J APPL PHYS | 170 |
| IEEE T ELECTRON DEV | 165 |
| LAB CHIP | 157 |
| IEEE ELECTR DEVICE L | 115 |
| SCI REP-UK | 106 |
| OPT EXPRESS | 103 |
| ADV MATER | 96 |
| J ELECTROCHEM SOC | 95 |
| 期刊被引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
| MICROELECTRON ENG | 365 |
| ECS J SOLID STATE SC | 204 |
| MICROMACHINES-BASEL | 153 |
| JPN J APPL PHYS | 148 |
| MATER RES EXPRESS | 130 |
| APPL SURF SCI | 127 |
| J MATER SCI-MATER EL | 127 |
| ACS APPL MATER INTER | 114 |
| MATERIALS | 94 |
| IEEE T ELECTRON DEV | 93 |
| 文章引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
| Beyond the lateral flow assay: A review of... | 40 |
| 3D printed microfluidics and microelectron... | 36 |
| Brain-inspired computing with resistive sw... | 36 |
| Emerging trends in wide band gap semicondu... | 32 |
| Focused electron beam induced deposition m... | 29 |
| Micropumps and biomedical applications - A... | 25 |
| Conduction mechanisms, dynamics and stabil... | 17 |
| Beyond 100 nm resolution in 3D laser litho... | 17 |
| Microfluidic platforms for cell cultures a... | 17 |
| Using block copolymers as infiltration sit... | 11 |
若用戶需要出版服務，請聯(lián)系出版商：ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1000 AE。
